文献
J-GLOBAL ID:201202234944179427
整理番号:12A1217051
フラーレン誘導体スピン-オン-炭素ハードマスクを用いた高アスペクト比エッチング
High aspect ratio etching using a fullerene derivative spin-on-carbon hardmask
著者 (4件):
FROMMHOLD A.
(Univ. Birmingham, Birmingham, GBR)
,
MANYAM J.
(Univ. Birmingham, Birmingham, GBR)
,
PALMER R. E.
(Univ. Birmingham, Birmingham, GBR)
,
ROBINSON A. P. G.
(Univ. Birmingham, Birmingham, GBR)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8328
ページ:
83280U.1-83280U.11
発行年:
2012年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)