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文献
J-GLOBAL ID:201202234961009160   整理番号:12A1447073

選択的に成長したn+-サイドゲートを有するダイヤモンドの接合型電界効果トランジスタ

Diamond Junction Field-Effect Transistors with Selectively Grown n+-Side Gates
著者 (22件):
IWASAKI Takayuki
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
IWASAKI Takayuki
(JST, Tokyo, JPN)
IWASAKI Takayuki
(JST-CREST, Tokyo, JPN)
HOSHINO Yuto
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
TSUZUKI Kohei
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
KATO Hiromitsu
(JST-CREST, Tokyo, JPN)
KATO Hiromitsu
(AIST, Ibaraki, JPN)
MAKINO Toshiharu
(JST-CREST, Tokyo, JPN)
MAKINO Toshiharu
(AIST, Ibaraki, JPN)
OGURA Masahiko
(JST-CREST, Tokyo, JPN)
OGURA Masahiko
(AIST, Ibaraki, JPN)
TAKEUCHI Daisuke
(JST-CREST, Tokyo, JPN)
TAKEUCHI Daisuke
(AIST, Ibaraki, JPN)
MATSUMOTO Tsubasa
(JST-CREST, Tokyo, JPN)
MATSUMOTO Tsubasa
(AIST, Ibaraki, JPN)
OKUSHI Hideyo
(JST-CREST, Tokyo, JPN)
OKUSHI Hideyo
(AIST, Ibaraki, JPN)
YAMASAKI Satoshi
(JST-CREST, Tokyo, JPN)
YAMASAKI Satoshi
(AIST, Ibaraki, JPN)
HATANO Mutsuko
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
HATANO Mutsuko
(JST, Tokyo, JPN)
HATANO Mutsuko
(JST-CREST, Tokyo, JPN)

資料名:
Applied Physics Express  (Applied Physics Express)

巻:号:ページ: 091301.1-091301.3  発行年: 2012年09月25日 
JST資料番号: F0599C  ISSN: 1882-0778  CODEN: APEPC4  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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