文献
J-GLOBAL ID:201202235188185740
整理番号:12A1217050
誘導自己組織化に対して適切なドライエッチ技術の探索
Exploration of Suitable Dry Etch Technologies for Directed Self-Assembly
著者 (5件):
YAMASHITA Fumiko
(Tokyo Electron Miyagi Ltd., Miyagi, JPN)
,
NISHIMURA Eiichi
(Tokyo Electron Miyagi Ltd., Miyagi, JPN)
,
YATSUDA Koichi
(Tokyo Electron Ltd., Tokyo, JPN)
,
MOCHIKI Hiromasa
(Tokyo Electron Ltd., Tokyo, JPN)
,
BANNISTER Julie
(Tokyo Electron America, Inc., TX, USA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8328
ページ:
83280T.1-83280T.9
発行年:
2012年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)