文献
J-GLOBAL ID:201202238058478192
整理番号:12A1727445
自立グラフェンの汎用製造用のグラフェンレジストインタレーシング工程
Graphene resist interlacing process for versatile fabrication of free-standing graphene
著者 (7件):
KUMAR S
(Centre for Res. on Adaptive Nanostructures and Nanodevices (CRANN), Dublin, IRL)
,
KUMAR S
(Trinity Coll. Dublin, Dublin, IRL)
,
REZVANI E
(Centre for Res. on Adaptive Nanostructures and Nanodevices (CRANN), Dublin, IRL)
,
REZVANI E
(Trinity Coll. Dublin, Dublin, IRL)
,
NICOLOSI V
(Univ. Oxford, Oxford, GBR)
,
DUESBERG G S
(Centre for Res. on Adaptive Nanostructures and Nanodevices (CRANN), Dublin, IRL)
,
DUESBERG G S
(Trinity Coll. Dublin, Dublin, IRL)
資料名:
Nanotechnology
(Nanotechnology)
巻:
23
号:
14
ページ:
145302,1-4
発行年:
2012年04月13日
JST資料番号:
W0108A
ISSN:
0957-4484
CODEN:
NNOTER
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)