文献
J-GLOBAL ID:201202238207851250
整理番号:12A0549666
低温成長の際にマグネトロンスパッタしたアモルファスSiO2薄膜に及ぼすプラズマ発生負酸素イオン衝突の影響
Influence of plasma-generated negative oxygen ion impingement on magnetron sputtered amorphous SiO2 thin films during growth at low temperatures
著者 (8件):
MACIAS-MONTERO M.
(Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (CSIC-US), Americo Vespucio 49, 41092 Seville, ESP)
,
GARCIA-GARCIA F. J.
(Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (CSIC-US), Americo Vespucio 49, 41092 Seville, ESP)
,
ALVAREZ R.
(Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (CSIC-US), Americo Vespucio 49, 41092 Seville, ESP)
,
GIL-ROSTRA J.
(Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (CSIC-US), Americo Vespucio 49, 41092 Seville, ESP)
,
GONZALEZ J. C.
(Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (CSIC-US), Americo Vespucio 49, 41092 Seville, ESP)
,
COTRINO J.
(Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (CSIC-US), Americo Vespucio 49, 41092 Seville, ESP)
,
GONZALEZ-ELIPE A. R.
(Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (CSIC-US), Americo Vespucio 49, 41092 Seville, ESP)
,
PALMERO A.
(Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (CSIC-US), Americo Vespucio 49, 41092 Seville, ESP)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
111
号:
5
ページ:
054312-054312-6
発行年:
2012年03月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)