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文献
J-GLOBAL ID：201202238338435766
整理番号：12A1439363
22nmノードとこれを超えたスピンオンカーボンハードマスクプロセスの高いエッチング選択性
High etching selectivity of spin-on-carbon hard mask process for 22nm node and beyond
IWAO Fumiko
(Tokyo Electron Kyushu LTD., Yamanashi, JPN)
,
SHIMURA Satoru
(Tokyo Electron Kyushu LTD., Yamanashi, JPN)
,
KYOUDA Hideharu
(Tokyo Electron Kyushu LTD., Yamanashi, JPN)
,
OYAMA Kenichi
(Tokyo Electron LTD., Yamanashi, JPN)
,
YAMAUCHI Shohei
(Tokyo Electron LTD., Yamanashi, JPN)
,
HARA Arisa
(Tokyo Electron LTD., Yamanashi, JPN)
,
NATORI Sakurako
(Tokyo Electron LTD., Yamanashi, JPN)
,
YAEGASHI Hidetami
(Tokyo Electron LTD., Tokyo, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 8325 ページ： 832525.1-832525.6 発行年： 2012年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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