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文献
J-GLOBAL ID：201202238455434428
整理番号：12A1306336
光学素子作製への2重パターニング技術の応用:プロセスシミュレーション,作製,測定
Application of double patterning technology to fabricate optical elements: Process simulation, fabrication, and measurement
BABIN S.
(Abeam Technologies, Inc., 5286 Dunnigan Ct., Castro Valley, California 94546)
,
GLUSHENKO G.
(Abeam Technologies, Inc., 5286 Dunnigan Ct., Castro Valley, California 94546)
,
WEBER T.
(Friedrich-Schiller-University Jena, Inst. of Applied Physics, Albert-Einstein-Strasse 15, D-07743, Jena, DEU)
,
KAESEBIER T.
(Friedrich-Schiller-University Jena, Inst. of Applied Physics, Albert-Einstein-Strasse 15, D-07743, Jena, DEU)
,
KLEY E.-b.
(Friedrich-Schiller-University Jena, Inst. of Applied Physics, Albert-Einstein-Strasse 15, D-07743, Jena, DEU)
,
SZEGHALMI A.
(Max Planck Inst. of Microstructure Physics, Weinberg 2, Halle (Saale) D-06120, DEU)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 30 号： 3 ページ： 031605-031605-5 発行年： 2012年05月
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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