文献
J-GLOBAL ID:201202238841404533
整理番号:12A1092621
ブロック共重合体の指向性自己組織化を用いた特徴増幅のための化学的ナノパターン化された基板の幾何学的制御
Geometric Control of Chemically Nano-patterned Substrates for Feature Multiplication Using Directed Self-Assembly of Block Copolymers
著者 (10件):
DELGADILLO Paulina A. Rincon
(Univ. Wisconsin-Madison, WI)
,
DELGADILLO Paulina A. Rincon
(IMEC, Leuven, BEL)
,
GRONHEID Roel
(IMEC, Leuven, BEL)
,
THODE Christopher J.
(Univ. Wisconsin-Madison, WI)
,
WU Hengpeng
(AZ Electronic Materials, NJ)
,
CAO Yi
(AZ Electronic Materials, NJ)
,
LIN Guanyang
(AZ Electronic Materials, NJ)
,
SOMERVELL Mark
(Tokyo Electron America, TX)
,
NAFUS Kathleen
(Tokyo Electron America, TX)
,
NEALEY Paul F.
(Univ. Wisconsin-Madison, WI)
資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻:
25
号:
1
ページ:
77-81
発行年:
2012年
JST資料番号:
L0202A
ISSN:
0914-9244
CODEN:
JSTEEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)