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文献
J-GLOBAL ID：201202238947839946
整理番号：12A0906245
炭窒化ケイ素ナノ層-合成と化学キャラクタリゼーション
Silicon carbonitride nanolayers - Synthesis and chemical characterization
HOFFMANN P.s.
(Technische Universitaet Darmstadt, Materials Sci., Petersenstr. 23, 64287 Darmstadt, DEU)
,
FAINER N.i.
(Nikolaev Inst. of Inorganic Chemistry, SB RAS, Acad. Lavrentjev Pr. 3, Novosibirsk 630090, RUS)
,
BAAKE O.
(Technische Universitaet Darmstadt, Materials Sci., Petersenstr. 23, 64287 Darmstadt, DEU)
,
KOSINOVA M.l.
(Nikolaev Inst. of Inorganic Chemistry, SB RAS, Acad. Lavrentjev Pr. 3, Novosibirsk 630090, RUS)
,
RUMYANTSEV Y.m.
(Nikolaev Inst. of Inorganic Chemistry, SB RAS, Acad. Lavrentjev Pr. 3, Novosibirsk 630090, RUS)
,
TRUNOVA V.a.
(Nikolaev Inst. of Inorganic Chemistry, SB RAS, Acad. Lavrentjev Pr. 3, Novosibirsk 630090, RUS)
,
KLEIN A.
(Technische Universitaet Darmstadt, Materials Sci., Petersenstr. 23, 64287 Darmstadt, DEU)
,
POLLAKOWSKI B.
(Physikalisch-Technische Bundesanstalt, Abbestr. 2-12, 10587 Berlin, DEU)
,
BECKHOFF B.
(Physikalisch-Technische Bundesanstalt, Abbestr. 2-12, 10587 Berlin, DEU)
,
ENSINGER W.
(Technische Universitaet Darmstadt, Materials Sci., Petersenstr. 23, 64287 Darmstadt, DEU)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 520 号： 18 ページ： 5906-5913 発行年： 2012年07月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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