文献
J-GLOBAL ID:201202239234180886
整理番号:12A1712133
六方晶系窒化硼素基板上の反応性イオンエッチングしたグラフェンナノリボン
Reactive-ion-etched graphene nanoribbons on a hexagonal boron nitride substrate
著者 (7件):
BISCHOFF D.
(Solid State Physics Lab., ETH Zurich, 8093 Zurich, CHE)
,
KRAEHENMANN T.
(Solid State Physics Lab., ETH Zurich, 8093 Zurich, CHE)
,
DROESCHER S.
(Solid State Physics Lab., ETH Zurich, 8093 Zurich, CHE)
,
GRUNER M. A.
(Solid State Physics Lab., ETH Zurich, 8093 Zurich, CHE)
,
BARRAUD C.
(Solid State Physics Lab., ETH Zurich, 8093 Zurich, CHE)
,
IHN T.
(Solid State Physics Lab., ETH Zurich, 8093 Zurich, CHE)
,
ENSSLIN K.
(Solid State Physics Lab., ETH Zurich, 8093 Zurich, CHE)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
101
号:
20
ページ:
203103-203103-4
発行年:
2012年11月12日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)