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文献
J-GLOBAL ID：201202239246534888
整理番号：12A0588832
熱処理で形成されたSilicate膜とLa2O3界面のコンダクタンス法による評価
ZHAO Y.
(東京工大)
,
MAMATRISHAT M.
(東京工大)
,
角嶋邦之
(東京工大)
,
AHMET P.
(東京工大)
,
片岡好則
(東京工大)
,
筒井一生
(東京工大)
,
西山彰
(東京工大)
,
杉井信之
(東京工大)
,
名取研二
(東京工大)
,
服部健雄
(東京工大)
,
岩井洋
(東京工大)
資料名：
応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)
(Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 59th ページ： ROMBUNNO.17P-A4-6 発行年： 2012年02月29日
JST資料番号： Y0054B 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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