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文献
J-GLOBAL ID：201202239868181109
整理番号：12A0495426
トレンチ型の三次元微小素子構造上に均一に堆積するための開口部を備えた遮蔽板によるフォトレジストの吹き付け塗装
Photoresist Spray Coating Using a Shield Plate with an Aperture for Uniform Deposition onto Trench-Type Three-Dimensional Microdevice Structures
KUMAGAI Shinya
(Toyota Technological Inst., Nagoya, JPN)
,
FUKUDA Naoya
(Toyota Technological Inst., Nagoya, JPN)
,
TAJIMA Hisayoshi
(Toyota Technological Inst., Nagoya, JPN)
,
SASAKI Minoru
(Toyota Technological Inst., Nagoya, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 51 号： 2,Issue 2 ページ： 02BL04.1-02BL04.5 発行年： 2012年02月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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