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文献
J-GLOBAL ID：201202240129903617
整理番号：12A1604424
Pt/Ti/SiO2/Si基板上に成長した(Na0.5K0.5)NbO3膜の電気的性質に及ぼす酸素圧の効果
Effects of oxygen pressure on electrical properties of (Na0.5K0.5)NbO3 films grown on Pt/Ti/SiO2/Si substrates
KIM Bo-yun
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Korea Univ., Anam-dong 5-ga, Seongbuk-gu, Seoul 136-701, KOR)
,
SEONG Tae-geun
(Dep. of Nano Semiconductor Engineering, Korea Univ., Anam-dong 5-ga, Seongbuk-gu, Seoul 136-701, KOR)
,
SEO In-tae
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Korea Univ., Anam-dong 5-ga, Seongbuk-gu, Seoul 136-701, KOR)
,
KIM Jin-seong
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Korea Univ., Anam-dong 5-ga, Seongbuk-gu, Seoul 136-701, KOR)
,
KANG Chong-yun
(Electronic Materials Center, KIST39-1 Hawolkok-dong, Seongbuk-gu, Seoul 137-791, KOR)
,
YOON Seok-jin
(Electronic Materials Center, KIST39-1 Hawolkok-dong, Seongbuk-gu, Seoul 137-791, KOR)
,
NAHM Sahn
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Korea Univ., Anam-dong 5-ga, Seongbuk-gu, Seoul 136-701, KOR)
資料名：
Acta Materialia
(Acta Materialia)
巻： 60 号： 20 ページ： 7034-7040 発行年： 2012年12月
JST資料番号： A0316A ISSN： 1359-6454 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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