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文献
J-GLOBAL ID:201202240645733752   整理番号:12A1306328

フォトレジストプラズマ改質の実時間測定:プラズマ真空紫外放射とイオンの役割

Real-time measurements of plasma photoresist modifications: The role of plasma vacuum ultraviolet radiation and ions
著者 (8件):
WEILNBOECK F.
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, and Inst. for Res. in Electronics and Applied Physics, Univ. of Maryland ...)
KUMAR N.
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, and Inst. for Res. in Electronics and Applied Physics, Univ. of Maryland ...)
OEHRLEIN G. S.
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, and Inst. for Res. in Electronics and Applied Physics, Univ. of Maryland ...)
CHUNG T.-y.
(Dep. of Chemical and Biomolecular Engineering, Univ. of California, Berkeley, California 94720)
GRAVES D.
(Dep. of Chemical and Biomolecular Engineering, Univ. of California, Berkeley, California 94720)
LI M.
(Dow Electronic Materials, 455 Forest Street, Marlborough, Massachusetts 01752)
HUDSON E. A.
(Lam Res. Corp., 4650 Cushing Parkway, Fremont, California 94538)
BENCK E. C.
(National Inst. of Standards and Technol., Gaithersburg, Maryland 20899)

資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)

巻: 30  号:ページ: 031807-031807-12  発行年: 2012年05月 
JST資料番号: E0974A  ISSN: 2166-2746  CODEN: JVTBD9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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