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文献
J-GLOBAL ID：201202243731915536
整理番号：12A0231321
その場化学反応法によるウルツ鉱CdS薄膜の生成に及ぼす,陰イオン濃度と析出温度の影響
Influence of anionic concentration and deposition temperature on formation of wurtzite CdS thin films by in situ chemical reaction method
CHU Juan
(School of Materials Sci. and Engineering, Key Lab. for Advanced Ceramics and Machining Technol. of Ministry of ...)
,
JIN Zhengguo
(School of Materials Sci. and Engineering, Key Lab. for Advanced Ceramics and Machining Technol. of Ministry of ...)
,
WANG Weidong
(School of Materials Sci. and Engineering, Key Lab. for Advanced Ceramics and Machining Technol. of Ministry of ...)
,
LIU Hui
(School of Materials Sci. and Engineering, Key Lab. for Advanced Ceramics and Machining Technol. of Ministry of ...)
,
WANG Dalong
(School of Materials Sci. and Engineering, Key Lab. for Advanced Ceramics and Machining Technol. of Ministry of ...)
,
YANG Jingxia
(State Key Lab. of Silicon Materials, Dep. of Materials Sci. & Engineering, Zhejiang Univ., Hangzhou 310027, CHN)
,
HONG Zhanglian
(State Key Lab. of Silicon Materials, Dep. of Materials Sci. & Engineering, Zhejiang Univ., Hangzhou 310027, CHN)
資料名：
Journal of Alloys and Compounds
(Journal of Alloys and Compounds)
巻： 517 ページ： 54-60 発行年： 2012年03月15日
JST資料番号： D0083A ISSN： 0925-8388 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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