文献
J-GLOBAL ID:201202244119389309
整理番号:12A1391859
Cu配線のための強固な拡散バリアとしての多成分(AlCrRuTaTiZr)Nxの4nm厚多層構造
4-nm thick multilayer structure of multi-component (AlCrRuTaTiZr)Nx as robust diffusion barrier for Cu interconnects
著者 (4件):
CHANG Shou-Yi
(National Chung Hsing Univ., Taichung, TWN)
,
LI Chen-En
(National Chung Hsing Univ., Taichung, TWN)
,
CHIANG Shen-Cheng
(National Chung Hsing Univ., Taichung, TWN)
,
HUANG Yi-Chung
(National Chung Hsing Univ., Taichung, TWN)
資料名:
Journal of Alloys and Compounds
(Journal of Alloys and Compounds)
巻:
515
ページ:
4-7
発行年:
2012年02月25日
JST資料番号:
D0083A
ISSN:
0925-8388
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)