文献
J-GLOBAL ID:201202244734260251
整理番号:12A0863261
VUV照射を応用した,ギャップ内側におけるPSZ-SOGフィルムの湿式エッチング抵抗の促進
Application of VUV irradiation to promote the wet etch resistance of PSZ-SOG film inside the gap
著者 (6件):
CHEN Chia-Ming
(Powerchip Semiconductor Corp., Hsinchu, TWN)
,
YEH Ming-Hsin
(Powerchip Semiconductor Corp., Hsinchu, TWN)
,
CHIEN Hung-Ju
(Powerchip Semiconductor Corp., Hsinchu, TWN)
,
FAN Jhen-Jhih
(Powerchip Semiconductor Corp., Hsinchu, TWN)
,
YAN Chin-Rung
(Powerchip Semiconductor Corp., Hsinchu, TWN)
,
MATSUO Hiroshi
(Powerchip Semiconductor Corp., Hsinchu, TWN)
資料名:
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻:
87
号:
10
ページ:
1927-1931
発行年:
2010年10月
JST資料番号:
C0406B
ISSN:
0167-9317
CODEN:
MIENEF
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)