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文献
J-GLOBAL ID：201202245343470525
整理番号：12A0777718
陰極真空アークにより堆積したTi-Al-N膜の構造及び特性に対するパルス基板バイアスの影響
Influence of pulsed substrate bias on the structure and properties of Ti-Al-N films deposited by cathodic vacuum arc
ZHANG G.p.
(Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sci., Beijing 100080, CHN)
,
GAO G.j.
(Changchun Univ. of Sci. and Technol., Coll. of Sci., Changchun 130000, CHN)
,
WANG X.q.
(Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sci., Beijing 100080, CHN)
,
LV G.h.
(Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sci., Beijing 100080, CHN)
,
ZHOU L.
(Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sci., Beijing 100080, CHN)
,
CHEN H.
(Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sci., Beijing 100080, CHN)
,
PANG H.
(Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sci., Beijing 100080, CHN)
,
YANG S.z.
(Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sci., Beijing 100080, CHN)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 258 号： 19 ページ： 7274-7279 発行年： 2012年07月15日
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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