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文献
J-GLOBAL ID：201202250098697989
整理番号：12A1756859
窒素雰囲気中の堆積後焼なましによるNbドープTiO2透明導電膜の作製
Fabrication of Nb-Doped TiO2 Transparent Conducting Films by Postdeposition Annealing under Nitrogen Atmosphere
OKAZAKI Sohei
(Kanagawa Acad. Sci. and Technol. (KAST), Kawasaki, JPN)
,
OKAZAKI Sohei
(JST-CREST, Kawasaki, JPN)
,
OHKUBO Junpei
(Kanagawa Acad. Sci. and Technol. (KAST), Kawasaki, JPN)
,
NAKAO Shoichiro
(Kanagawa Acad. Sci. and Technol. (KAST), Kawasaki, JPN)
,
NAKAO Shoichiro
(JST-CREST, Kawasaki, JPN)
,
HIROSE Yasushi
(Kanagawa Acad. Sci. and Technol. (KAST), Kawasaki, JPN)
,
HIROSE Yasushi
(JST-CREST, Kawasaki, JPN)
,
HIROSE Yasushi
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
HITOSUGI Taro
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
HASEGAWA Tetsuya
(Kanagawa Acad. Sci. and Technol. (KAST), Kawasaki, JPN)
,
HASEGAWA Tetsuya
(JST-CREST, Kawasaki, JPN)
,
HASEGAWA Tetsuya
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 51 号： 11,Issue 1 ページ： 118003.1-118003.2 発行年： 2012年11月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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