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文献
J-GLOBAL ID：201202250246198423
整理番号：12A0248671
プラズマに基づく移動増強アフターグロー化学蒸着装置を用いた窒化ガリウム膜成長
Gallium Nitride Film Growth Using a Plasma Based Migration Enhanced Afterglow Chemical Vapor Deposition System
BUTCHER K. Scott A.
(Lakehead Univ., Ontario, CAN)
,
BUTCHER K. Scott A.
(Meaglow Ltd., Ontario, CAN)
,
KEMP Brad W.
(Lakehead Univ., Ontario, CAN)
,
KEMP Brad W.
(Meaglow Ltd., Ontario, CAN)
,
HRISTOV Ilian B.
(Lakehead Univ., Ontario, CAN)
,
HRISTOV Ilian B.
(Meaglow Ltd., Ontario, CAN)
,
TERZIYSKA Penka
(Lakehead Univ., Ontario, CAN)
,
BINSTED Peter W.
(Lakehead Univ., Ontario, CAN)
,
ALEXANDROV Dimiter
(Lakehead Univ., Ontario, CAN)
,
ALEXANDROV Dimiter
(Meaglow Ltd., Ontario, CAN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 51 号： 1,Issue 2 ページ： 01AF02.1-01AF02.5 発行年： 2012年01月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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