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文献
J-GLOBAL ID：201202250320089658
整理番号：12A1145166
真空紫外線反射率測定による誘電体超薄膜の特性化に対する測定戦略
Measurement Strategy for Dielectric Ultra-Thin Film Characterization by Vacuum Ultra-Violet Reflectometry
GUMPRECHT T.
(Fraunhofer-Inst. Integrated Systems and Device Technol. IISB, Erlangen, DEU)
,
GUMPRECHT T.
(Erlangen Graduate School in Advanced Optical Technol. SAOT, Erlangen, DEU)
,
ROEDER G.
(Fraunhofer-Inst. Integrated Systems and Device Technol. IISB, Erlangen, DEU)
,
SCHELLENBERGER M.
(Fraunhofer-Inst. Integrated Systems and Device Technol. IISB, Erlangen, DEU)
,
PFITZNER L.
(Fraunhofer-Inst. Integrated Systems and Device Technol. IISB, Erlangen, DEU)
資料名：
IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop
(IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop)
巻： 23rd ページ： 82-87 発行年： 2012年
JST資料番号： W0718A ISSN： 1078-8743 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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