文献
J-GLOBAL ID:201202251257342050
整理番号:12A1756769
三個の多層膜ミラーを持つ高倍率光学系を用いた波長での極端紫外リソグラフィーマスクの観察
At-Wavelength Extreme Ultraviolet Lithography Mask Observation Using a High-Magnification Objective with Three Multilayer Mirrors
著者 (8件):
TOYODA Mitsunori
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
YAMASOE Kenjiro
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
HATANO Tadashi
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
YANAGIHARA Mihiro
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
TOKIMASA Akifumi
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
,
HARADA Tetsuo
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
,
WATANABE Takeo
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
,
KINOSHITA Hiroo
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
資料名:
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻:
5
号:
11
ページ:
112501.1-112501.3
発行年:
2012年11月25日
JST資料番号:
F0599C
ISSN:
1882-0778
CODEN:
APEPC4
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)