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文献
J-GLOBAL ID:201202251257342050   整理番号:12A1756769

三個の多層膜ミラーを持つ高倍率光学系を用いた波長での極端紫外リソグラフィーマスクの観察

At-Wavelength Extreme Ultraviolet Lithography Mask Observation Using a High-Magnification Objective with Three Multilayer Mirrors
著者 (8件):
TOYODA Mitsunori
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
YAMASOE Kenjiro
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
HATANO Tadashi
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
YANAGIHARA Mihiro
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
TOKIMASA Akifumi
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
HARADA Tetsuo
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
WATANABE Takeo
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
KINOSHITA Hiroo
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)

資料名:
Applied Physics Express  (Applied Physics Express)

巻:号: 11  ページ: 112501.1-112501.3  発行年: 2012年11月25日 
JST資料番号: F0599C  ISSN: 1882-0778  CODEN: APEPC4  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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