文献
J-GLOBAL ID:201202251298746000
整理番号:12A1524967
薄膜電子技術応用のためのZnOのリモートプラズマ励起原子層堆積
Remote plasma enhanced atomic layer deposition of ZnO for thin film electronic applications
著者 (9件):
SULTAN S.M.
(Univ. Southampton, Hampshire, GBR)
,
CLARK O.D.
(Univ. Southampton, Hampshire, GBR)
,
MASAUD T.B.
(Univ. Southampton, Hampshire, GBR)
,
HAKIM M.M.A.
(Univ. Southampton, Hampshire, GBR)
,
SUN K.
(Univ. Southampton, Hampshire, GBR)
,
ASHBURN P.
(Univ. Southampton, Hampshire, GBR)
,
CHONG H.M.H.
(Univ. Southampton, Hampshire, GBR)
,
FANG Q.
(Oxford Instruments Plasma Technol., Bristol, GBR)
,
GUNN R.
(Oxford Instruments Plasma Technol., Bristol, GBR)
資料名:
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻:
97
ページ:
162-165
発行年:
2012年09月
JST資料番号:
C0406B
ISSN:
0167-9317
CODEN:
MIENEF
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)