文献
J-GLOBAL ID:201202251483508808
整理番号:12A1152100
Ta2O5の原子層堆積のための高性能イミドアミドプリカーサ
High-performance imido-amido precursor for the atomic layer deposition of Ta2O5
著者 (7件):
BLANQUART Timothee
(Univ. Helsinki, Helsinki, FIN)
,
LONGO Valentino
(Technische Universiteit Eindhoven, Eindhoven, NLD)
,
NIINISTOE Jaakko
(Univ. Helsinki, Helsinki, FIN)
,
HEIKKILAE Mikko
(Univ. Helsinki, Helsinki, FIN)
,
KUKLI Kaupo
(Univ. Helsinki, Helsinki, FIN)
,
RITALA Mikko
(Univ. Helsinki, Helsinki, FIN)
,
LESKELAE Markku
(Univ. Helsinki, Helsinki, FIN)
資料名:
Semiconductor Science and Technology
(Semiconductor Science and Technology)
巻:
27
号:
7
ページ:
074003,1-6
発行年:
2012年07月
JST資料番号:
E0503B
ISSN:
0268-1242
CODEN:
SSTEET
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)