文献
J-GLOBAL ID:201202251697408037
整理番号:12A0652199
Ge/Si(001)ヘテロ構造についての高温X線回折測 残留引張応力の研究
High temperature x ray diffraction measurements on Ge/Si(001) heterostructures: A study on the residual tensile strain
著者 (5件):
CAPELLINI G.
(Dipartimento di Fisica “E. Amaldi”, Universita degli Studi Roma Tre, via Vasca Navale 84, Roma 00146, ITA)
,
DE SETA M.
(Dipartimento di Fisica “E. Amaldi”, Universita degli Studi Roma Tre, via Vasca Navale 84, Roma 00146, ITA)
,
ZAUMSEIL P.
(IHP, Im Technologiepark 25, Frankfurt (Oder) 15236, DEU)
,
KOZLOWSKI G.
(IHP, Im Technologiepark 25, Frankfurt (Oder) 15236, DEU)
,
SCHROEDER T.
(IHP, Im Technologiepark 25, Frankfurt (Oder) 15236, DEU)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
111
号:
7
ページ:
073518-073518-6
発行年:
2012年04月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)