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文献
J-GLOBAL ID：201202253020258996
整理番号：12A0593535
RFアシストDCマグネトロンスパッタリングによる酸化インジウムスズ薄膜の特性評価
Characterization of indium tin oxide films by RF-assisted DC magnetron sputtering
HOUNG Boen
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, I-Shou Univ., Kaohsiung City 840, Taiwan, TWN)
,
WANG Adam
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, I-Shou Univ., Kaohsiung City 840, Taiwan, TWN)
,
WANG Adam
(Emerging Display Technologies Corp., Kaohsiung City 811, Taiwan, TWN)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 258 号： 15 ページ： 5593-5598 発行年： 2012年05月15日
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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