文献
J-GLOBAL ID:201202254339758580
整理番号:12A0160894
印加パルス電場下の強誘電性薄膜のその場格子歪分析
In-situ lattice-strain analysis of a ferroelectric thin film under an applied pulse electric field
著者 (7件):
SAKATA O.
(Japan Synchrotron Radiation Res. Inst./SPring-8, Hyogo, JPN)
,
SAKATA O.
(JST-CREST, Tokyo, JPN)
,
YASUI S.
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
YAMADA T.
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
YABASHI M.
(RIKEN/SPring-8, Hyogo, JPN)
,
KIMURA S.
(Japan Synchrotron Radiation Res. Inst./SPring-8, Hyogo, JPN)
,
FUNAKUBO H.
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
資料名:
AIP Conference Proceedings
(AIP Conference Proceedings)
巻:
1234
ページ:
151-154
発行年:
2010年
JST資料番号:
D0071C
ISSN:
0094-243X
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)