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文献
J-GLOBAL ID：201202254366016014
整理番号：12A0684946
Cr厚さを変化させてプラズマ支援分子線エピタキシーによって調製したInNナノロッドの成長
Growth of InN nanorods prepared by plasma-assisted molecular beam epitaxy with varying Cr thicknesses
LIU K.w.
(Inst. of Electro-Optical Sci. and Engineering, National Cheng Kung Univ., Tainan 701, Taiwan)
,
YOUNG S.j.
(Dep. of Electronic Engineering, National Formosa Univ., Huwei, Yunlin 632, Taiwan)
,
CHANG S.j.
(Inst. of Electro-Optical Sci. and Engineering, National Cheng Kung Univ., Tainan 701, Taiwan)
,
CHANG S.j.
(Inst. of Microelectronics & Dep. of Electrical Engineering, Center for Micro/Nano Sci. and Technol., Advanced ...)
,
CHANG S.j.
(Inst. of Nanotechnology and Microsystems Engineering, National Cheng Kung Univ., Tainan 701, Taiwan)
,
HSUEH T.h.
(Inst. of Electro-Optical Sci. and Engineering, National Cheng Kung Univ., Tainan 701, Taiwan)
,
CHEN Y.z.
(Inst. of Nanotechnology and Microsystems Engineering, National Cheng Kung Univ., Tainan 701, Taiwan)
,
CHEN K.j.
(Inst. of Microelectronics & Dep. of Electrical Engineering, Center for Micro/Nano Sci. and Technol., Advanced ...)
,
HUNG H.
(Inst. of Microelectronics & Dep. of Electrical Engineering, Center for Micro/Nano Sci. and Technol., Advanced ...)
,
WANG S.m.
(Inst. of Microelectronics & Dep. of Electrical Engineering, Center for Micro/Nano Sci. and Technol., Advanced ...)
,
WU Y.l.
(Inst. of Nanotechnology and Microsystems Engineering, National Cheng Kung Univ., Tainan 701, Taiwan)
資料名：
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻： 347 号： 1 ページ： 113-118 発行年： 2012年05月15日
JST資料番号： B0942A ISSN： 0022-0248 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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