文献
J-GLOBAL ID:201202255804809410
整理番号:12A0339411
リソグラフィー用マスクとしてのキラルネマチック流体
Chiral Nematic Fluids as Masks for Lithography
著者 (6件):
JEONG Hyeon Su
(Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol., Daejeon, KOR)
,
KIM Yun Ho
(Korea Res. Institution of Chemical Technol., Daejeon, KOR)
,
LEE Ji Sun
(Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol., Daejeon, KOR)
,
KIM Jung Hyun
(Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol., Daejeon, KOR)
,
SRINIVASARAO Mohan
(Georgia Inst. of Technol., Georgia, USA)
,
JUNG Hee-Tae
(Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol., Daejeon, KOR)
資料名:
Advanced Materials
(Advanced Materials)
巻:
24
号:
3
ページ:
381-384
発行年:
2012年01月17日
JST資料番号:
W0001A
ISSN:
0935-9648
CODEN:
ADVMEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)