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文献
J-GLOBAL ID：201202255804809410
整理番号：12A0339411
リソグラフィー用マスクとしてのキラルネマチック流体
Chiral Nematic Fluids as Masks for Lithography
JEONG Hyeon Su
(Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol., Daejeon, KOR)
,
KIM Yun Ho
(Korea Res. Institution of Chemical Technol., Daejeon, KOR)
,
LEE Ji Sun
(Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol., Daejeon, KOR)
,
KIM Jung Hyun
(Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol., Daejeon, KOR)
,
SRINIVASARAO Mohan
(Georgia Inst. of Technol., Georgia, USA)
,
JUNG Hee-Tae
(Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol., Daejeon, KOR)
資料名：
Advanced Materials
(Advanced Materials)
巻： 24 号： 3 ページ： 381-384 発行年： 2012年01月17日
JST資料番号： W0001A ISSN： 0935-9648 CODEN： ADVMEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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