文献
J-GLOBAL ID:201202256017743742
整理番号:12A0430789
代替アルミニウム前駆体としてジメチルアルミニウムイソプロポキシド,[Al(CH3)2(μ-OiPr)]2,を用いたAl2O3のプラズマ増強及び熱的原子層堆積
Plasma-enhanced and thermal atomic layer deposition of Al2O3 using dimethylaluminum isopropoxide, [Al(CH3)2(μ-OiPr)]2, as an alternative aluminum precursor
著者 (4件):
POTTS Stephen E.
(Dep. of Applied Physics, Eindhoven Univ. of Technol., P. O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, NLD)
,
DINGEMANS Gijs
(Dep. of Applied Physics, Eindhoven Univ. of Technol., P. O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, NLD)
,
LACHAUD Christophe
(Air Liquide Res. & Dev., 1 Chemin de la Porte des Loges, BP 126, 78345 Jouy-en-Josas, FRA)
,
KESSELS W. M. M.
(Dep. of Applied Physics, Eindhoven Univ. of Technol., P. O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, NLD)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
30
号:
2
ページ:
021505
発行年:
2012年03月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)