文献
J-GLOBAL ID:201202256511456330
整理番号:12A0239065
歪んだフォトレジスト膜から作製したマルチスケールマイクロパターン化ポリマーとカーボン基質:作製と細胞適合性
Multiscale micro-patterned polymeric and carbon substrates derived from buckled photoresist films: fabrication and cytocompatibility
著者 (5件):
KULKARNI Manish M.
(The Univ. of Akron, Dep. of Polymer Engineering, 44325, Akron, OH, USA)
,
SHARMA Chandra S.
(Indian Inst. of Technol., Dep. of Chemical Engineering, 502205, Hyderabad, Yeddumailaram, Andhra Pradesh, IND)
,
SHARMA Ashutosh
(Indian Inst. of Technol., Dep. of Chemical Engineering & Unit on Nanosciences, 208016, Kanpur, Uttar Pradesh, IND)
,
KALMODIA Sushma
(Indian Inst. of Technol., Dep. of Materials Sci. and Engineering, 208016, Kanpur, Uttar Pradesh, IND)
,
BASU Bikramjit
(Indian Inst. of Technol., Dep. of Materials Sci. and Engineering, 208016, Kanpur, Uttar Pradesh, IND)
資料名:
Journal of Materials Science
(Journal of Materials Science)
巻:
47
号:
8
ページ:
3867-3875
発行年:
2012年04月
JST資料番号:
B0722A
ISSN:
0022-2461
CODEN:
JMTSAS
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)