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J-GLOBAL ID：201202256511456330 整理番号：12A0239065

歪んだフォトレジスト膜から作製したマルチスケールマイクロパターン化ポリマーとカーボン基質:作製と細胞適合性

Multiscale micro-patterned polymeric and carbon substrates derived from buckled photoresist films: fabrication and cytocompatibility

著者 (5件)：

KULKARNI Manish M.

(The Univ. of Akron, Dep. of Polymer Engineering, 44325, Akron, OH, USA)

SHARMA Chandra S.

(Indian Inst. of Technol., Dep. of Chemical Engineering, 502205, Hyderabad, Yeddumailaram, Andhra Pradesh, IND)

SHARMA Ashutosh

(Indian Inst. of Technol., Dep. of Chemical Engineering & Unit on Nanosciences, 208016, Kanpur, Uttar Pradesh, IND)

KALMODIA Sushma

(Indian Inst. of Technol., Dep. of Materials Sci. and Engineering, 208016, Kanpur, Uttar Pradesh, IND)

BASU Bikramjit

(Indian Inst. of Technol., Dep. of Materials Sci. and Engineering, 208016, Kanpur, Uttar Pradesh, IND)

資料名：

Journal of Materials Science (Journal of Materials Science)

巻： 47 号： 8 ページ： 3867-3875 発行年： 2012年04月
JST資料番号： B0722A ISSN： 0022-2461 CODEN： JMTSAS 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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