文献
J-GLOBAL ID:201202257437790653
整理番号:12A0652629
プラズマ支援分子ビームエピタクシーによってZnO(0001)基板のO面上に成長させたInN薄膜の構造特性
Structural properties of InN films grown on O-face ZnO(0001) by plasma-assisted molecular beam epitaxy
著者 (7件):
CHO Yongjin
(Paul-Drude-Institut fuer Festkoerperelektronik, Hausvogteiplatz 5-7, 10117 Berlin, DEU)
,
BRANDT Oliver
(Paul-Drude-Institut fuer Festkoerperelektronik, Hausvogteiplatz 5-7, 10117 Berlin, DEU)
,
KORYTOV Maxim
(Leibniz-Institut fuer Kristallzuechtung, Max-Born-Str. 2, 12489 Berlin, DEU)
,
ALBRECHT Martin
(Leibniz-Institut fuer Kristallzuechtung, Max-Born-Str. 2, 12489 Berlin, DEU)
,
KAGANER Vladimir M.
(Paul-Drude-Institut fuer Festkoerperelektronik, Hausvogteiplatz 5-7, 10117 Berlin, DEU)
,
RAMSTEINER Manfred
(Paul-Drude-Institut fuer Festkoerperelektronik, Hausvogteiplatz 5-7, 10117 Berlin, DEU)
,
RIECHERT Henning
(Paul-Drude-Institut fuer Festkoerperelektronik, Hausvogteiplatz 5-7, 10117 Berlin, DEU)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
100
号:
15
ページ:
152105-152105-4
発行年:
2012年04月09日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)