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文献
J-GLOBAL ID：201202258281229480
整理番号：12A1081080
遷移金属酸化物への低エネルギーH+照射による抵抗スイッチングフィラメントの制御可能な形成
Controllable formation of resistive switching filaments by low-energy H+ irradiation in transition-metal oxides
ZHANG Yu
(Beijing National Lab. for Condensed Matter Physics, Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100190, CHN)
,
LI Song-lin
(Beijing National Lab. for Condensed Matter Physics, Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100190, CHN)
,
LI Jie
(Beijing National Lab. for Condensed Matter Physics, Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100190, CHN)
,
DENG Hui
(Beijing National Lab. for Condensed Matter Physics, Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100190, CHN)
,
CUI Li-min
(Beijing National Lab. for Condensed Matter Physics, Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100190, CHN)
,
ZHENG Dong-ning
(Beijing National Lab. for Condensed Matter Physics, Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100190, CHN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 101 号： 4 ページ： 043502-043502-4 発行年： 2012年07月23日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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