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J-GLOBAL ID：201202258444456528 整理番号：12A1650828

反応性RFマグネトロンスパッタリングにより低温で作製した固有水素化アモルファスシリコン膜中の水素関連結晶化

Hydrogen related crystallization in intrinsic hydrogenated amorphous silicon films prepared by reactive radiofrequency magnetron sputtering at low temperature

著者 (11件)：

SENOUCI D.

(Lab. de Genie Physique, Univ. Ibn-Khaldoun, 14000 Tiaret, DZA)

SENOUCI D.

(LPCMME, Dep. de Physique, Univ. d’Oran Es-senia, 3100, Oran, DZA)

BAGHDAD R.

(Lab. de Genie Physique, Univ. Ibn-Khaldoun, 14000 Tiaret, DZA)

BELFEDAL A.

(LPCMME, Dep. de Physique, Univ. d’Oran Es-senia, 3100, Oran, DZA)

CHAHED L.

(LPCMME, Dep. de Physique, Univ. d’Oran Es-senia, 3100, Oran, DZA)

PORTIER X.

(CIMAP, CEA, CNRS UMR 6252-ENSICAEN, UCBN, 6 Bvd Marechal Juin, 14050 Caen Cedex, FRA)

CHARVET S.

(LPMC, UFR des Sciences, Univ. de Picardie Jules Verne, 33 rue Saint-Leu, 80039 Amiens, FRA)

KIM K.h.

(LPICM, Lab. de Physique des Interfaces et Couches Minces, CNRS UMR 7647, Ecole Polytechnique, 91128 Palaiseau, FRA)

KIM K.h.

(TOTAL S.A., Gas & Power, R&D Div., Courbevoie, FRA)

ROCA I CABARROCAS P.

(LPICM, Lab. de Physique des Interfaces et Couches Minces, CNRS UMR 7647, Ecole Polytechnique, 91128 Palaiseau, FRA)

ZELLAMA K.

(LPMC, UFR des Sciences, Univ. de Picardie Jules Verne, 33 rue Saint-Leu, 80039 Amiens, FRA)

資料名：

Thin Solid Films (Thin Solid Films)

巻： 522 ページ： 186-192 発行年： 2012年11月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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