文献
J-GLOBAL ID:201202258898682840
整理番号:12A1217040
低k誘電材料に及ぼすプラズマ曝露の影響
The effects of plasma exposure on low-k dielectric materials
著者 (14件):
SHOHET J. L.
(Univ. Wisconsin-Madison, WI, USA)
,
REN H.
(Univ. Wisconsin-Madison, WI, USA)
,
NICHOLS M. T.
(Univ. Wisconsin-Madison, WI, USA)
,
SINHA H.
(Univ. Wisconsin-Madison, WI, USA)
,
LU W.
(Univ. Wisconsin-Madison, WI, USA)
,
MAVRAKAKIS K.
(Univ. Wisconsin-Madison, WI, USA)
,
LIN Q.
(IBM Watson Res. Center, NY, USA)
,
RUSSELL N. M.
(Tokyo Electron Ltd., NY, USA)
,
TOMOYASU M.
(Tokyo Electron Ltd., NY, USA)
,
ANTONELLI G. A.
(Novellus Systems, OR, USA)
,
ENGELMANN S. U.
(IBM Watson Res. Center, NY, USA)
,
FULLER N. C.
(IBM Watson Res. Center, NY, USA)
,
RYAN V.
(GLOBALFOUNDRIES, NY, USA)
,
NISHI Y.
(Stanford Univ., CA, USA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8328
ページ:
83280I.1-83280I.16
発行年:
2012年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)