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文献
J-GLOBAL ID：201202260285316641
整理番号：12A0363630
シリコン上の高度格子-不整合エピタキシーにおける埋め込みヘテロ界面水素の解析
Analysis of buried heterointerfacial hydrogen in highly lattice-mismatched epitaxy on silicon
YAMAZAKI T.
,
ASAOKA H.
,
TAGUCHI T.
,
YAMAMOTO S.
,
YAMAZAKI D.
,
MARUYAMA R.
,
TAKEDA M.
,
SHAMOTO S.
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 520 号： 8 ページ： 3300-3303 発行年： 2012年02月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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