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文献
J-GLOBAL ID：201202260728241364
整理番号：12A0333966
TiO2薄膜の結晶相制御のためのプラズマ支援ALD(原子層堆積)の際の基板バイアス
Substrate Biasing during Plasma-Assisted ALD for Crystalline Phase-Control of TiO2 Thin Films
PROFIJT H. B.
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
,
VAN DE SANDEN M. C. M.
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
,
KESSELS W. M. M.
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
資料名：
Electrochemical and Solid-State Letters
(Electrochemical and Solid-State Letters)
巻： 15 号： 2 ページ： G1-G3 発行年： 2012年
JST資料番号： W1290A ISSN： 1099-0062 CODEN： ESLEF6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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