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文献
J-GLOBAL ID：201202260741753552
整理番号：12A1216980
14nm技術ノードおよびそれを越える技術ノードを目指したキャラクタプロジェクションに基づく電子ビーム直接描画のためのマルチレベルパターン面積密度マップを用いた近接効果補正
Proximity effect correction using multilevel area density maps for character projection based electron beam direct writing toward 14nm node and beyond
OGINO Kozo
(Fujitsu Semiconductor Ltd., Tokyo, JPN)
,
HOSHINO Hiromi
(Fujitsu Semiconductor Ltd., Tokyo, JPN)
,
MARUYAMA Takashi
(e-Shuttle Inc., Kanagawa, JPN)
,
MACHIDA Yasuhide
(e-Shuttle Inc., Kanagawa, JPN)
,
SUGATANI Shinji
(e-Shuttle Inc., Kanagawa, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 8323 ページ： 832328.1-832328.11 発行年： 2012年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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