文献
J-GLOBAL ID:201202260748563244
整理番号:12A1773662
PECVD窒化シリコン層の構造,組成および光学特性
Structural, compositional and optical properties of PECVD silicon nitride layers
著者 (4件):
KAROUTA Fouad
(Australian National Univ., ACT, AUS)
,
VORA Kaushal
(Australian National Univ., ACT, AUS)
,
TIAN Jie
(Australian National Univ., ACT, AUS)
,
JAGADISH Chennupati
(Australian National Univ., ACT, AUS)
資料名:
Journal of Physics. D. Applied Physics
(Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻:
45
号:
44
ページ:
445301,1-10
発行年:
2012年11月07日
JST資料番号:
B0092B
ISSN:
0022-3727
CODEN:
JPAPBE
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)