文献
J-GLOBAL ID:201202261100705430
整理番号:12A0340186
水素化アモルファスシリコンの拘束高圧化学堆積
Confined High-Pressure Chemical Deposition of Hydrogenated Amorphous Silicon
著者 (12件):
BARIL Neil F.
(Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA)
,
HE Rongrui
(Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA)
,
DAY Todd D.
(Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA)
,
SPARKS Justin R.
(Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA)
,
KESHAVARZI Banafsheh
(Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA)
,
KRISHNAMURTHI Mahesh
(Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA)
,
BORHAN Ali
(Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA)
,
GOPALAN Venkatraman
(Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA)
,
PEACOCK Anna C.
(Univ. Southampton, Southampton, GBR)
,
HEALY Noel
(Univ. Southampton, Southampton, GBR)
,
SAZIO Pier J. A.
(Univ. Southampton, Southampton, GBR)
,
BADDING John V.
(Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA)
資料名:
Journal of the American Chemical Society
(Journal of the American Chemical Society)
巻:
134
号:
1
ページ:
19-22
発行年:
2012年01月11日
JST資料番号:
C0254A
ISSN:
0002-7863
CODEN:
JACSAT
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)