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文献
J-GLOBAL ID：201202261284044997
整理番号：12A0059099
TiN/HfO:Nゲートスタックにおける窒素拡散の軟X線光電子分光研究
Soft X-ray photoemission study of nitrogen diffusion in TiN/HfO:N gate stacks
MARTINEZ E.
(CEA-LETI, MINATEC Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble cedex 09, FRA)
,
GAUMER C.
(ST Microelectronics, 850 rue Jean Monnet, 38926 Crolles, FRA)
,
LHOSTIS S.
(ST Microelectronics, 850 rue Jean Monnet, 38926 Crolles, FRA)
,
LICITRA C.
(CEA-LETI, MINATEC Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble cedex 09, FRA)
,
SILLY M.
(Synchrotron SOLEIL, L’Orme des Merisiers, 91191 Gif-sur-Yvette, FRA)
,
SIROTTI F.
(Synchrotron SOLEIL, L’Orme des Merisiers, 91191 Gif-sur-Yvette, FRA)
,
RENAULT O.
(CEA-LETI, MINATEC Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble cedex 09, FRA)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 258 号： 6 ページ： 2107-2112 発行年： 2012年01月01日
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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