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J-GLOBAL ID：201202262059381379 整理番号：12A0065809

計算機リソグラフィー:193-nmプロジェクションリソグラフィーの解像限界排除

Computational lithography: Exhausting the resolution limits of 193-nm projection lithography systems

著者 (11件)：

MELVILLE David O. S.

(IBM T.J. Watson Res. Center, Yorktown Heights, New York, 10598)

ROSENBLUTH Alan E.

(IBM T.J. Watson Res. Center, Yorktown Heights, New York, 10598)

WAECHTER Andreas

(IBM T.J. Watson Res. Center, Yorktown Heights, New York, 10598)

MILLSTONE Marc

(IBM T.J. Watson Res. Center, Yorktown Heights, New York, 10598)

TIRAPU-AZPIROZ Jaione

(IBM Semiconductor Res. and Dev. Center, Hopewell Junction, New York 12590)

TIAN Kehan

(IBM Semiconductor Res. and Dev. Center, Hopewell Junction, New York 12590)

LAI Kafai

(IBM Semiconductor Res. and Dev. Center, Hopewell Junction, New York 12590)

INOUE Tadanobu

(IBM Res., Tokyo, Yamato, Kanagawa, JPN)

SAKAMOTO Masaharu

(IBM Res., Tokyo, Yamato, Kanagawa, JPN)

ADAM Kostas

(Mentor Graphics Corp., San Jose, California)

TRITCHKOV Alexander

(Mentor Graphics Corp., San Jose, California)

資料名：

Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)

巻： 29 号： 6 ページ： 06FH04 発行年： 2011年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：文献レビュー発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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