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文献
J-GLOBAL ID：201202262095153897
整理番号：12A1439348
レジストからSiハードマスク層への酸の拡散
Diffusion of Acid from Resist to Si-hardmask Layer
SHIRAI Masamitsu
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
TAKEDA Hiroki
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
HATSUSE Tatsuya
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
OKAMURA Haruyuki
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
WAKAYAMA Hiroyuki
(Nissan Chemical Ind., LTD., Toyama, JPN)
,
NAKAJIMA Makoto
(Nissan Chemical Ind., LTD., Toyama, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 8325 ページ： 83251L.1-83251L.6 発行年： 2012年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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