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文献
J-GLOBAL ID：201202262121479585
整理番号：12A1711879
極端条件下での材料剪断係数の干渉法測定のためのリソグラフィー作製格子
Lithographically fabricated gratings for the interferometric measurement of material shear moduli under extreme conditions
GLEASON Arianna E.
(Geological & Environmental Sciences Dep., Stanford Univ., Stanford, California 94305)
,
TIBERIO Richard C.
(Stanford Nano-Patterning Center, Stanford Univ., Stanford, California 94305)
,
MAO Wendy L.
(Geological & Environmental Sciences Dep., Stanford Univ., Stanford, California 94305)
,
ALI Suzanne
(Dep. of Chemistry, Univ. of California, Berkeley, Berkeley, California 94720)
,
BOLME Cynthia A.
(Shock and Detonation Physics, Los Alamos National Lab., Los Alamos, New Mexico 87544)
,
LAZICKI Amy
(Shock Physics, Lawrence Livermore National Lab., Livermore, California 94550)
,
BORDONARO Garry
(Cornell Nanofabrication Facility, Cornell Univ., Ithaca, New York 14853)
,
TREICHLER John
(Cornell Nanofabrication Facility, Cornell Univ., Ithaca, New York 14853)
,
GENOVA Vincent
(Cornell Nanofabrication Facility, Cornell Univ., Ithaca, New York 14853)
,
EGGERT Jon H.
(Shock Physics, Lawrence Livermore National Lab., Livermore, California 94550)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 30 号： 6 ページ： 06F306-06F306-6 発行年： 2012年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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