文献
J-GLOBAL ID:201202262984840618
整理番号:12A0960641
シリコンのフッ化水素酸,硝酸,および酢酸エッチングにより形成された半球キャビティを採用したエレクトロウェッティングレンズ
Electrowetting Lens Employing Hemispherical Cavity Formed by Hydrofluoric Acid, Nitric Acid, and Acetic Acid Etching of Silicon
著者 (5件):
LEE June Kyoo
(Kyungpook National Univ., Daegu, KOR)
,
CHOI Ju Chan
(Kyungpook National Univ., Daegu, KOR)
,
JANG Won Ick
(Electronics and Telecommunications Res. Inst., Daejeon, KOR)
,
KIM Hak-Rin
(Kyungpook National Univ., Daegu, KOR)
,
KONG Seong Ho
(Kyungpook National Univ., Daegu, KOR)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
51
号:
6,Issue 2
ページ:
06FL05.1-06FL05.7
発行年:
2012年06月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)