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文献
J-GLOBAL ID：201202263033092308
整理番号：12A0268488
粉砕した新しいシリカ含有ジルコニアと低温劣化(LTD)抑制との関連:パイロット研究
The relationship between milling a new silica-doped zirconia and its resistance to low-temperature degradation (LTD): a pilot study
NAKAMURA Takashi
(Dep. of Fixed Prosthodontics, Osaka Univ. Graduate School of Dentistry)
,
USAMI Hirofumi
(Dep. of Fixed Prosthodontics, Osaka Univ. Graduate School of Dentistry)
,
OHNISHI Hiroshi
(Nikkato Corp.)
,
NISHIDA Hisataka
(Dep. of Operative Dentistry, Osaka Dental Univ.)
,
TANG Xuehua
(Dep. of Fixed Prosthodontics, Osaka Univ. Graduate School of Dentistry)
,
WAKABAYASHI Kazumichi
(Dep. of Fixed Prosthodontics, Osaka Univ. Graduate School of Dentistry)
,
SEKINO Tohru
(Inst. of Multidisciplinary Res. for Advanced Materials, Tohoku Univ.)
,
YATANI Hirofumi
(Dep. of Fixed Prosthodontics, Osaka Univ. Graduate School of Dentistry)
資料名：
Dental Materials Journal
(Dental Materials Journal)
巻： 31 号： 1 ページ： 106-112 (J-STAGE) 発行年： 2012年
JST資料番号： Y0283A ISSN： 0287-4547 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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