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文献
J-GLOBAL ID：201202264511427422
整理番号：12A0960598
NiO(111)エピタキシャル薄膜における周期的な直線ナノ溝アレイの自己組織化における急速熱処理と基板テラス幅の影響
Influence of Rapid Thermal Annealing and Substrate Terrace Width on Self-Organizing Formation of Periodic Straight Nanogroove Array on NiO(111) Epitaxial Thin Film
YAMAUCHI Ryosuke
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
TAN Geng
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
SHIOJIRI Daishi
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
KOYAMA Koji
(Namiki Precision Jewel Co., Ltd., Tokyo, JPN)
,
KANEKO Satoru
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
KANEKO Satoru
(Kanagawa Industrial Technol. Center, Kanagawa, JPN)
,
MATSUDA Akifumi
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
YOSHIMOTO Mamoru
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 51 号： 6,Issue 2 ページ： 06FF16.1-06FF16.2 発行年： 2012年06月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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