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文献
J-GLOBAL ID：201202264593415141
整理番号：12A1718426
eビームリソグラフィにより作製した高性能回折格子
High performance diffraction gratings made by e-beam lithography
ZEITNER Uwe D.
(Fraunhofer Inst. for Applied Optics & Precision Engineering, Albert-Einstein-Str. 7, 07745, Jena, DEU)
,
ZEITNER Uwe D.
(Friedrich-Schiller-University Jena, Inst. for Applied Physics, Max Wien Platz 1, 07743, Jena, DEU)
,
OLIVA Maria
(Fraunhofer Inst. for Applied Optics & Precision Engineering, Albert-Einstein-Str. 7, 07745, Jena, DEU)
,
FUCHS Frank
(Fraunhofer Inst. for Applied Optics & Precision Engineering, Albert-Einstein-Str. 7, 07745, Jena, DEU)
,
MICHAELIS Dirk
(Fraunhofer Inst. for Applied Optics & Precision Engineering, Albert-Einstein-Str. 7, 07745, Jena, DEU)
,
BENKENSTEIN Tino
(Fraunhofer Inst. for Applied Optics & Precision Engineering, Albert-Einstein-Str. 7, 07745, Jena, DEU)
,
HARZENDORF Torsten
(Fraunhofer Inst. for Applied Optics & Precision Engineering, Albert-Einstein-Str. 7, 07745, Jena, DEU)
,
KLEY Ernst-Bernhard
(Friedrich-Schiller-University Jena, Inst. for Applied Physics, Max Wien Platz 1, 07743, Jena, DEU)
資料名：
Applied Physics. A. Materials Science & Processing
(Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻： 109 号： 4 ページ： 789-796 発行年： 2012年12月
JST資料番号： D0256C ISSN： 0947-8396 CODEN： APHYCC 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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