文献
J-GLOBAL ID:201202264764848912
整理番号:12A1524977
サブミクロン容量性ギャップによる表面微細加工ポリシリコン膜の金属化導入腐食およびパリレン保護
Metallization introduced corrosion and parylene protection of surface micromachined polysilicon film with submicron capacitive gap
著者 (6件):
ZHANG Yiming
(Peking Univ., Beijing, CHN)
,
WANG Yunda
(Peking Univ., Beijing, CHN)
,
CAI Ming
(Peking Univ., Beijing, CHN)
,
WANG Ying
(Peking Univ., Beijing, CHN)
,
HAO Yilong
(Peking Univ., Beijing, CHN)
,
CHEN Jing
(Peking Univ., Beijing, CHN)
資料名:
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻:
97
ページ:
20-25
発行年:
2012年09月
JST資料番号:
C0406B
ISSN:
0167-9317
CODEN:
MIENEF
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)