文献
J-GLOBAL ID:201202264895386248
整理番号:12A1711863
ドライ及びウエットエッチングの組み合わせを用いたシリコンナノ細孔アレイの作製
Fabrication of silicon nanopore arrays using a combination of dry and wet etching
著者 (6件):
DENG Tao
(Inst. of Microelectronics, Tsinghua Univ., Beijing 100084, CHN)
,
CHEN Jian
(Coll. of Sci., Guizhou Univ., Guiyang 550025, CHN)
,
SI Weihua
(Inst. of Microelectronics, Tsinghua Univ., Beijing 100084, CHN)
,
YIN Ming
(Inst. of Microelectronics, Tsinghua Univ., Beijing 100084, CHN)
,
MA Wen
(Inst. of Microelectronics, Tsinghua Univ., Beijing 100084, CHN)
,
LIU Zenwen
(Inst. of Microelectronics, Tsinghua Univ., Beijing 100084, CHN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻:
30
号:
6
ページ:
061804-061804-5
発行年:
2012年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
2166-2746
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)